基于多目标遗传算法的铜箔电沉积工艺参数优化平台开发OA

针对铜箔电沉积过程中多工艺参数耦合、多目标相互制约的优化难题,本文开发了一种基于多目标遗传算法(Multi-objective Genetic Algorithm,MOGA)的工艺参数优化平台。平台综合考虑电流密度、温度和添加剂浓度等关键工艺参数,以厚度均匀性、沉积速率、表面粗糙度和沉积能耗为目标,构建多目标优化模型,并采用改进的MOGA进行协同优化求解。试验结果表明,平台能够有效协调各目标之间的权衡关系,提供分布均匀的帕累托(Pareto)最优解集,为高性能铜箔的工艺参数配置提供科学依据,具有较好的工程适用性与优化效果。