西门子法多晶硅化学气相沉积过程提质降耗研究进展OA
Advances in Quality Improvement and Energy Consumption Reduction for the Chemical Vapor Deposition of Polysilicon via the Siemens Method
多晶硅是光伏和半导体产业的关键基础材料,发展高质量、低成本、低能耗以及连续稳定的多晶硅绿色生产技术具有重要意义.聚焦西门子法多晶硅化学气相沉积过程,从多晶硅还原炉流动传热强化、多晶硅还原炉电加热机制优化以及多晶硅沉积均匀性调控3 个方面,系统综述了多晶硅提质降耗的研究进展与技术突破.
Polysilicon serves as a critical foundational material for both photovoltaic and semiconductor industries.The development of high-quality,cost-effective,energy-efficient,and sustainable green production technologies for polysilicon holds significant importance.Focusing on the chemical vapor deposition(CVD)process of polysilicon via the Siemens method,this paper systematically reviews the research progress and technological breakthroughs in improving the quality and reducing the consumption of polysilicon from three aspects,including the enhancement of flow and heat transfer,optimization of electric heating mechanisms,and regulation of polysilicon deposition uniformity in polysilicon reduction furnaces.
李志鸿;戴恩睿;杨妮;谢刚;聂陟枫
昆明学院 化学化工学院 云南省金属有机分子材料与器件重点实验室,云南 昆明 650214昆明学院 化学化工学院 云南省金属有机分子材料与器件重点实验室,云南 昆明 650214昆明冶金研究院有限公司,云南 昆明 650031昆明冶金研究院有限公司,云南 昆明 650031昆明学院 化学化工学院 云南省金属有机分子材料与器件重点实验室,云南 昆明 650214
化学化工
多晶硅西门子法还原炉提质降耗
PolysiliconSiemens MethodReduction FurnaceQuality Improvement and Energy Consumption Reduction
《云南化工》 2026 (6)
1-5,5
国家自然科学基金(52464048)云南省基础研究项目(202401AS070021202301BA070001-008)云南省兴滇英才青年人才项目(YNWR-QNBJ-2020-017)云南省教育厅科学研究基金项目(2025Y1063).
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