真空原子氧辐照下MoS_(2)/Zn薄膜的摩擦磨损性能OA
采用磁控溅射技术制备了MoS_(2)/Zn润滑薄膜,研究了原子氧MoS_(2)薄膜摩擦磨损性能的影响规律。结果显示,Zn的掺入促使MoS_(2)沿平行于(002)晶面的方向择优生长,薄膜结构致密有序,可有效抑制原子氧向薄膜内部侵蚀。转速2 r/min、MoS_(2)靶电流1.6 A、Zn靶电流0.3 A的MoS_(2)/Zn多层薄膜的摩擦因数为0.02、磨损率为1.9×10^(-7)mm^(3)/(N·m)。原子氧环境中,MoS_(2)/Zn多层薄膜展示出更好的摩擦学性能,在6.12×10^(20)atoms/cm^(2)的辐照剂量下,MoS_(2)/Zn多层薄膜的平均摩擦因数降至0.01,其性能提升主要源于辐照产生的MeO_(x)和MoS_(2)的协同作用。
朱千业;冯上郁;史彦斌;蒲吉斌
中国科学院宁波材料技术与工程研究所海洋关键材料全国重点实验室,宁波315201中国科学院宁波材料技术与工程研究所海洋关键材料全国重点实验室,宁波315201 宁波大学机械工程与力学学院,宁波315211中国科学院宁波材料技术与工程研究所海洋关键材料全国重点实验室,宁波315201中国科学院宁波材料技术与工程研究所海洋关键材料全国重点实验室,宁波315201
机械制造
磁控溅射二硫化钼滑动摩擦磨损原子氧试验
《中国机械工程》 2026 (1)
P.83-91,9
国家重点研发计划(2022YFB3402800)浙江省自然科学基金(LDG25E050001)。
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