本文综述了近年来国内外研究者在纳米金刚石薄膜的掺杂、导电性能、场发射性能和电化学性能等方面的工作,涉及化学气相沉积法制备n型纳米金刚石薄膜,离子注入掺杂纳米金刚石晶粒提高薄膜的n型导电性能,金属离子注入制备场发射性能良好的纳米金刚石薄膜,低剂量离子注入和晶粒表面氧终止态获得高迁移率n型电导,纳米金刚石/石墨烯复合结构的调控对其电学及电化学性能的影响,以及硼掺杂金刚石薄膜电极的微结构和电化学性能研究等.综合分析发现,晶粒掺杂和表界面协同调控可以提升薄膜的电学性能、场发射性能及电化学性能,为纳米金刚石薄膜在纳米电子器件、电化学电极等领域的应用提供了理论基础.
胡晓君;郑玉浩;陈成克;鲁少华;蒋梅燕;李晓
通用工业技术
纳米金刚石薄膜;掺杂;表面态;电学性能;n型电导;p型电导
《人工晶体学报》 2022 (005)
865-874 / 10
国家自然科学基金联合重点项目(U1809210);国家重点研发计划(2016YFE0133200);国家国际科技合作计划(2014DFR51160);浙江省重点研发计划一带一路国际合作项目(2018C04021);国家自然科学基金(50972129,50602039,11504325,52002351,52102052);浙江省自然科学基金(LQ15A040004,LY18E020013,LGC21E020001)
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